據外媒報道，光刻機霸主ASML(阿斯麥)已經開始出貨新品Twinscan NXT:2000i DUV(NXT:2000i雙工件臺深紫外光刻機)，可用于7nm和5nm節(jié)點。

　　NXT:2000i將是NXE:3400B EUV光刻機的有效補充，畢竟臺積電/GF的第一代7nm都是基于DUV工藝。

　　同時，NXT:2000i也成為了ASML旗下套刻精度(overlay)最高的產品，達到了和3400B一樣的1.9nm(5nm要求至少2.4nm，7nm要求至少3.5nm)。

　　ASML將于本季度末開始量產Twinscan NXT:2000i，價格未披露。目前，NXE:3400B EUV光刻機的報價是1.2億美元一臺，傳統(tǒng)的ArF沉浸式光刻機(14nm節(jié)點)報價是7200萬美元之間， NXT:2000i肯定是在這兩者之間了。

　　最后簡單介紹下ASML公司，其脫胎于荷蘭飛利浦的光刻研發(fā)小組，2017年全球光刻機市場占比7成，是絕對的一哥，后面跟著的是佳能、尼康和上海微電子。