2017年出貨11臺，2018年出貨18臺，ASML(阿斯麥)上周表示，計劃在2019年出貨30臺EUV光刻機。

　　目前，ASML占有全球光刻機市場70%的份額，遠遠領先尼康。更重要的是，僅荷蘭ASML有能力制造和出貨EUV光刻機，尼康的最高技術水平還停留在ArF氟化氬沉浸式光刻機。

　　與此同時，ASML將在2019年推出產(chǎn)能更高的新型號Twinscan NXE: 3400C，取代現(xiàn)款售價1.2億美元(約合8億)的Twinscan NXE: 3400B。3400C的每小時晶圓雕刻能力從155片提升至170片，換裝Cymer公司的340W光源。

　　資料顯示，截至去年7月，全球各公司、研究機構等總共僅安裝了31臺EUV光刻機。不過，遺憾的是，迄今，大規(guī)模使用EUV(極紫外光刻)技術的先進工藝仍未量產(chǎn)，三星7nm LPP理論上進度最快，但當下僅限于在S3工廠小規(guī)模投產(chǎn)，年底位于韓國華城、投資6萬億韓元(約合362億元)的工廠竣工后，將是三星7nm EUV主力廠。

　　另外，臺積電的第二代7nm也將在非關鍵步驟上采用EUV技術，Intel、SK海力士也都對EUV光刻機有強烈需求。